समाचार

थर्मोसेटिंग एक्रिलिक टाँस्ने लागि सन्दर्भ ज्वाला-प्रतिरोधी सूत्रीकरण

थर्मोसेटिंग एक्रिलिक चिपकने को लागि UL94 V0 ज्वाला-प्रतिरोधी आवश्यकताहरू पूरा गर्न, अवस्थित ज्वाला retardants को विशेषताहरू र थर्मोसेटिंग प्रणालीहरूको विशिष्टताहरूलाई विचार गर्दै, निम्न अनुकूलित सूत्रीकरण र प्रमुख विश्लेषण प्रस्ताव गरिएको छ:

I. सूत्रीकरण डिजाइन सिद्धान्तहरू र थर्मोसेटिंग प्रणाली आवश्यकताहरू

क्युरिङ तापक्रम (सामान्यतया १२०-१८० डिग्री सेल्सियस) सँग मेल खानुपर्छ।
ज्वाला प्रतिरोधकहरूले उच्च-तापमान प्रशोधनको सामना गर्नुपर्छ (विघटन विफलताबाट बच्न)
उच्च क्रसलिङ्क-घनत्व प्रणालीहरूमा फैलावट स्थिरता सुनिश्चित गर्नुहोस्
उपचार पछिको यान्त्रिक शक्ति र ज्वाला प्रतिरोधक क्षमता सन्तुलनमा राख्नुहोस्

II. सिनर्जिस्टिक फ्लेम-रिटार्डन्ट सिस्टम डिजाइन

ज्वाला प्रतिरोधक कार्यहरू र थर्मोसेट अनुकूलता

ज्वाला प्रतिरोधक	प्राथमिक भूमिका	थर्मोसेट अनुकूलता	सिफारिस गरिएको लोडिङ
अल्ट्रा-फाइन ATH	मुख्य FR: एन्डोथर्मिक डिहाइड्रेसन, ग्यास-फेज डिल्युसन	सतह परिमार्जन आवश्यक छ (एन्टी-एग्लोमेरेसन)	≤३५% (अत्यधिक लोडिङले क्रसलिङ्किङ घटाउँछ)
एल्युमिनियम हाइपोफोस्फाइट	सिनर्जिस्ट: चार उत्प्रेरक, रेडिकल स्क्याभेन्जर (PO·)	विघटन तापक्रम >३००°C, उपचारको लागि उपयुक्त	८–१२%
जिंक बोरेट	चार बढाउने: काँचको अवरोध बनाउँछ, धुवाँ कम गर्छ	ATH (Al-BO char) सँग समन्वय गर्छ	५–८%
एमसीए (मेलामाइन साइनुरेट)	ग्यास-फेज FR: NH₃ निस्कासन गर्छ, दहनलाई रोक्छ	डिकम्प। तापक्रम २५०–३००°C (क्युरिङ तापक्रम <२५०°C)	३–५%

III. सिफारिस गरिएको सूत्रीकरण (तौल %)

कम्पोनेन्ट प्रशोधन दिशानिर्देशहरू

घटक	अनुपात	कुञ्जी प्रशोधन नोटहरू
थर्मोसेट एक्रिलिक राल	४५–५०%	उच्च फिलर लोडिङको लागि कम-चिसोपन प्रकार (जस्तै, इपोक्सी एक्रिलेट)
सतह-परिमार्जित ATH (D50 <5µm)	२५–३०%	KH-550 सिलेनसँग पूर्व-उपचार गरिएको
एल्युमिनियम हाइपोफोस्फाइट	१०-१२%	ATH सँग पूर्व-मिश्रित, ब्याचहरूमा थपिएको
जिंक बोरेट	६–८%	MCA सँग थपियो; उच्च-शियर गिरावटबाट बच्नुहोस्
एमसीए	४–५%	ढिलो-चरणको कम-गतिको मिश्रण (<२५०°C)
Dispersant (BYK-2152 + PE मोम)	१.५-२%	एकरूप फिलर फैलावट सुनिश्चित गर्दछ
कपलिंग एजेन्ट (KH-550)	1%	ATH/हाइपोफोस्फाइटमा पूर्व-उपचार गरिएको
उपचार गर्ने एजेन्ट (BPO)	१-२%	छिटो निको पार्नको लागि कम-तापमान सक्रियकर्ता
एन्टी-सेटलिङ एजेन्ट (एरोसिल R202)	०.५%	थिक्सोट्रोपिक एन्टी-सेडिमेन्टेशन

IV. महत्वपूर्ण प्रक्रिया नियन्त्रणहरू

१. फैलावट प्रक्रिया

पूर्व-उपचार: ATH र हाइपोफोस्फाइटलाई ५% KH-५५०/इथेनॉल घोलमा भिजाएर (२ घण्टा, ८० डिग्री सेल्सियस सुकाउने)
मिश्रण अनुक्रम:
- रेजिन + डिस्पर्सेन्ट → कम-गतिको मिश्रण → परिमार्जित ATH/हाइपोफोस्फाइट थप्नुहोस् → उच्च-गतिको डिस्पर्सन (२५०० आरपीएम, २० मिनेट) → जिंक बोरेट/एमसीए थप्नुहोस् → कम-गतिको मिश्रण (एमसीए डिग्रेडेसनबाट बच्नुहोस्)
उपकरण: प्लानेटरी मिक्सर (भ्याकुम डिग्यासिङ) वा थ्री-रोल मिल (अल्ट्राफाइन पाउडरको लागि)

२. क्युरिङ अप्टिमाइजेसन

चरणबद्ध उपचार: ८०°C/१ घण्टा (पूर्व-जेल) → १४०°C/२ घण्टा (उपचार पछि, MCA विघटनबाट बच्नुहोस्)
दबाब नियन्त्रण: फिलर जम्मा हुनबाट रोक्नको लागि ०.५-१ MPa

३. सिनर्जिस्टिक मेकानिज्महरू

ATH + हाइपोफोस्फाइट: रेडिकलहरू (PO·) सफा गर्दा AlPO₄-प्रबलित चार बनाउँछ।
जिंक बोरेट + MCA: ग्याँस-ठोस दोहोरो अवरोध (NH₃ पातलोपन + पग्लिएको काँचको तह)

V. कार्यसम्पादन ट्युनिङ रणनीतिहरू

सामान्य समस्या र समाधानहरू

मुद्दा	मूल कारण	समाधान
टपकिरहेको इग्निसन	कम पग्लने चिपचिपाहट	MCA लाई ५% + हाइपोफोस्फाइटलाई १२% मा बढाउनुहोस्, वा ०.५% PTFE माइक्रोपाउडर थप्नुहोस्।
उपचार पछिको भंगुरता	अत्यधिक ATH लोड हुँदै	ATH लाई २५% + ५% nano-CaCO₃ (कठोर बनाउने) मा घटाउनुहोस्
भण्डारण अवसादन	कमजोर थिक्सोट्रोपी	सिलिकालाई ०.८% मा बढाउनुहोस् वा BYK-410 मा स्विच गर्नुहोस्
LOI <२८%	अपर्याप्त ग्यास-फेज FR	२% लेपित रातो फस्फोरस वा १% न्यानो-बीएन थप्नुहोस्

VI. प्रमाणीकरण मेट्रिक्स

UL94 V0: ३.२ मिमी नमूनाहरू, कुल ज्वाला समय <५० सेकेन्ड (कपास इग्निशन छैन)
LOI ≥३०% (सुरक्षा मार्जिन)
TGA अवशेष >25% (800°C, N₂)
यान्त्रिक सन्तुलन: तन्य शक्ति >८ MPa, कतरनी शक्ति >६ MPa

प्रमुख उपायहरू

यान्त्रिक अखण्डता कायम राख्दै V0 मूल्याङ्कन प्राप्त गर्दछ।
स्केलिङ गर्नुअघि सानो स्तरको परीक्षण (५० ग्राम) सिफारिस गरिन्छ।
उच्च कार्यसम्पादनको लागि: २-३% DOPO डेरिभेटिभहरू (जस्तै, फस्फाफेनान्थ्रीन) थप्न सकिन्छ।

यो सूत्रले प्रक्रियायोग्यता र अन्तिम-प्रयोग कार्यसम्पादनलाई अनुकूलन गर्दै कडा ज्वाला-प्रतिरोधी मापदण्डहरूको अनुपालन सुनिश्चित गर्दछ।

पोस्ट समय: जुलाई-०१-२०२५